疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
關(guān)鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線(xiàn)集成解決方案提供商
疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
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PECVD 即等離子體增強化學(xué)氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產(chǎn)生等離子體對化學(xué)氣相沉積過(guò)程施加影響的技術(shù)，可與自研疊舟
插片機配套；主要適用于晶體硅太陽(yáng)能電池制造中電池片的正背面的減反射膜的生長(cháng)，如氮化硅、氮氧硅等膜層的制備。
設備特點(diǎn)
· 單管載片量：M10硅片量1368片/M12硅片1024片
· 反應室：紅太陽(yáng)專(zhuān)利疊舟淀積成膜技術(shù)，反應室利用率提升15%
· 產(chǎn)能優(yōu)勢：?jiǎn)螜C產(chǎn)能提升15%，可達500MW
· 運行成本優(yōu)勢：綜合COO成本降低10%+
· 性能穩定：新型推舟、運動(dòng)電極和進(jìn)氣技術(shù)，提升設備穩定，成膜均勻
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