PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
關(guān)鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線(xiàn)集成解決方案提供商
PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
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PECVD 即等離子體增強化學(xué)氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產(chǎn)生等離子體對化學(xué)氣相沉積過(guò)程施加影響的技術(shù)；主要適用于晶
體硅太陽(yáng)能電池制造中電池片的正背面的減反射膜的生長(cháng)，如氮化硅、氮氧硅等膜層的制備。
設備特點(diǎn)
· 單管載片量：M10硅片量768片/M12硅片616片
· 加熱系統：爐體集成輔熱，多段獨立可控輔熱設計，提升產(chǎn)能且成膜均勻性
· 放電機構：新型運動(dòng)式電極機構，降低對電極卡槳故障率
· 新型推舟機構：提升推舟系統剛度，槳翹度形變減少20%，推舟速度提升30%
· 能耗：采用新型保溫材料和結構，比前一代機型單片電池片節能10%
· 粉塵倒灌功能：采用算法提前判斷泵停，減少泵異常停止粉塵
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