低壓氧化退火設備（M5011-10/UM型）
關(guān)鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線(xiàn)集成解決方案提供商
低壓氧化退火設備（M5011-10/UM型）
低壓氧化退火設備（M5011-10/UM型）
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低壓氧化/退火爐主要用于太陽(yáng)能行業(yè)晶體硅的氧化、退火工藝以及大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業(yè)
的氧化、退火、合金及燒結等。
設備特點(diǎn)
· 硅片尺寸可兼容至230mm
· 采用柔性爐門(mén)支撐機構、可旋轉式爐門(mén)設計方式，爐口密封圈更換及爐門(mén)維護無(wú)需設備降溫，維護更加便捷，有效延長(cháng)石英管、爐體
壽命
· 具備獨創(chuàng )的快速冷卻專(zhuān)利技術(shù)，高溫氧化后可縮短工藝時(shí)間10 min以上
· 成熟的濕氧工藝，提升高溫氧化速率，降低氧化溫度，提升石英件壽命
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